ASML首席执行官说，外国媒体报道在最近接受媒体采访时说，中国已经发展了很长时间。首席执行官认为，中国要跟上ASML技术还有很长的路要走，但是美国提出的镇压措施只会适得其反，“使成功很难”。他还说，最好专注于创新，而不是限制像中国这样的竞争对手。 “中国已经开始培养几个国内光刻团队。中国仍然是跟上ASML技术的很长一段路，但是您试图停止努力成功的人。”在此之前，中国科学院已经成功地开发了固态（深紫外线）的DUV激光创新（深色紫外线），可以发出193 nm的光线，包括LCurrent DUV曝光波浪，包括半导体过程，可以继续进行3 nm。该技术获得的最终激光功率中国科学与70MW，6 kHz，线宽度低于880MHz的纯纯纯频率相当，完全最大宽度低于下午0.11。 （Picomer，1000分钟。纳米）和现有的纯纯度。据此，它也可以在3NM过程节点中使用。该设计大大降低了光刻系统的复杂性和数量，减少了对稀有气体的依赖，并显着降低了能源消耗。相关技术在国际光电工程协会（SPIE）的官方网站上列出。就光谱纯度而言，所有这些固态DUV光源的技术或多或少与商业标准光源相同，但功率和频率要低得多。与ASML技术相比，频率胜利达到了约2/3，但输出功率仅为0.7％，因此在实施之前必须继续重复和改进。 [本文的结尾]如果您需要重印，请确保向我们展示您的资料来源：Kuai技术编辑：Xuehua
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